強輻射催化法提純多晶硅
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將低純度的金屬硅,提純成可用于制造太陽能電池的高純硅材料的主要關(guān)鍵,是去除材料中的硼雜質(zhì). 本文提出了一種采用特殊的造渣過程以去除硼雜質(zhì)的新方法. 在這種新方法中,為了促進快速的化學(xué)反應(yīng),采用高密度的光子作為催化劑,以達到太陽能級硅材料的標(biāo)準(zhǔn). 本文對使用這種新的強輻射催化法煉硅的高溫工具、冶煉方法、材料配方、材料的混合、以及渣劑的分離等關(guān)鍵技術(shù),進行了詳盡的公開和討論,并在強輻射光催化原理的研究方面提出了一些探索性的機理. 為了方便讀者使用本文所提出的方法,建立起一套完整的提煉太陽能級硅材料的工業(yè)系統(tǒng),本文也就去硼后的硅材料中去磷的冷陰極電子束的方法,以及采用磁懸浮無坩堝的定向凝固方法去除金屬,提出了一些新的設(shè)計和建議. 關(guān)于本文所提出的方法是否能擴展到電子級硅材料的冶煉工業(yè),本文所提出的無光象定日鏡能否擴展應(yīng)用于其他太陽能光熱領(lǐng)域,以及所提出的宏觀光化學(xué)催化假設(shè)能否獲得更多的實驗驗證等,也試圖進行了一些進一步的討論. 希望本文所提出的方法,能夠在全球科學(xué)家們所孜孜以求的低碳、低成本的太陽能產(chǎn)業(yè)的巨大努力中,走出一條同傳統(tǒng)方法不同的道路.
關(guān)鍵詞: 多晶硅提純,光催化,太陽爐,除硼,除磷,多晶硅
PACS: 81. 20. Ym,42. 79. Ek
1. 引 言
關(guān)于本文所介紹的強輻射催化法煉硅的科學(xué)題目,作者實際上是從兩個方向進行研究和學(xué)習(xí)的: 1) 關(guān)于實現(xiàn)強輻射方法的新的工具的研究; 2)關(guān)于尋找不同于西門子法的低耗能、低污染的制造太陽能級硅材料的新方法、工藝和原理的研究. 這兩個方法研究的結(jié)合則 形 成了本 文 寫 作 的 主 要梗概.本文作者之一( 陳應(yīng)天) ,多年以來一直注意到光學(xué)系統(tǒng)中的非近軸光線,即斜軸光線的聚焦,是一個至今尚未解決的難題[1]. 誠然,在大多數(shù)情況下,斜軸聚焦是不可能得到理想的成象結(jié)果的,然而,有許多物理學(xué)和工業(yè)上的應(yīng)用并不需要精確的成像,也不需要對光線進行干涉; 那么,我們能否創(chuàng)造一種新的光學(xué)系統(tǒng),用非傳統(tǒng)的方法來解決這個難題呢? 這樣一個科學(xué)題目自然是十分龐大的. 陳沒
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[13]和 CFT 即 無 氫 技 術(shù) 法 產(chǎn) 生 硅烷[14]; 利用吹入反應(yīng)氣體在高溫氧和氫的等離子體火焰中消除金屬硅中的硼和碳[15]; 利用含少量水的氬氣氣氛下熱熔煉去除金屬硅中的硼和磷[16]; 使用真空中電子束熔煉 法將金屬硅提 純 為 太 陽 能 級硅[17]; 利用 碘 化 學(xué) 氣 相 輸 運 法 對 金 屬 硅 進 行 提純[18]; 使用熱交換爐對金屬硅進行提純[19],使用硝酸、鹽酸、氫氟酸以及堿溶液對金屬硅粉進行長時間的處理以獲得較純硅材料[20]等等. 然而所有這些,或者是因為成本不能大幅度降低,或者是因為提純效果不理想,甚至或者是因為安全性問題[21],仍然處于等待在市場上具有更強的競爭力的狀況.在這當(dāng)中,研究的最多的是采用各種物理法將工業(yè)硅材料中的硼、磷和其他金屬雜質(zhì)進行提純以達到太陽能級硅材料的要求[22]. 在這個方法中,由于使用了物理法中最有效的定向凝固方法,去除金屬的效果十分明顯而且經(jīng)濟性十分好. 磷雜質(zhì)由于它的固液分凝系數(shù)( 0. 35) 同 1 是接近的,定向凝固法除磷的效果較差,然而人們也發(fā)現(xiàn)了使用真空熔煉法可以將磷在一定的高真空的條件下?lián)]發(fā)掉,其經(jīng)濟性也不差. 盡管如此,用物理辦法有效地去除硼雜質(zhì),是物理法至今不能成為一個成功的工業(yè)方法的關(guān)鍵; 其主要原因是: 一方面硅和硼的物理化學(xué)性質(zhì),由于元素周期表存在著對角線原則,十分相似;另一方面硼的固液分凝系數(shù)為 0. 8—0. 85,更加接近 1,這就使得單獨使用物理法的定向凝固法去除硅材料中的所有雜質(zhì)幾乎成為不可能.物理冶金法中,從工業(yè)硅中分離硼的主要方法有三種. 一種是在熔硅中吹入帶有水蒸氣的各種氣體,包括氫氣、氧氣等,使硅中的氧化物變?yōu)闅浠鹬惖目蓳]發(fā)的物質(zhì). 另外一種是在由惰性氣體存在的環(huán)境中產(chǎn)生等離子體,并同時注入氫氣等氣體使硅中的硼雜質(zhì)變?yōu)闅浠鹬惖目蓳]發(fā)的物質(zhì).
第三種方法是采用造渣法去硼,在這種方法中,將工業(yè)硅的熔液與由二氧化硅和氧化鋁、氧化鈣等堿性氧化物形成的共熔的渣劑混合,利用硼在混合渣劑中的溶解度與在熔硅中的溶解度不同的物理特性,將硼雜質(zhì)從工業(yè)硅中萃取出來. 在以上三種方法中,第一種方法和第二種方法都存在比較耗時、耗電的問題,相比之下,第三種方法的經(jīng)濟性較高.在傳統(tǒng)的造渣法去硼的過程中,普通造渣法去硼的過程仍然是十分繁雜而低效的. 本文將詳細分析這種方法低效的原因,使用作者最近發(fā)展起來的高溫工具,和針對造渣法的缺點,所提出來的一系列改進方法,將工業(yè)硅提純成太陽能級硅材料的提純效率大大提高,實現(xiàn)了一種低耗能、低污染的提純方法.
2. 斜軸光線的聚焦問題
2. 1. 從 m * n 到 m + n
本文的討論還是先從低成本、高效率的高溫工具的創(chuàng)立開始,這種以太陽爐為主的新的高溫手段的創(chuàng)新是從光學(xué),特別是光學(xué)中的非近軸光線開始的. 如上所述,斜軸光線的聚焦問題可以發(fā)生在許多不同場合,比較常見的場合是解決一個運動光源的光線,能否一次性地聚于一個固定目標(biāo)上的問題. 在這樣一個三體( 運動光源、反射聚光鏡和固定目標(biāo)) 問題所提出的斜軸聚焦是光學(xué)中的難題. 在這樣的情況下,由于入射角的不斷變化,像差的發(fā)生是必然的. 像差是一種由幾何光學(xué)定律而確定的,任何一種光學(xué)器件所必不可克服的對成像的畸變. 像差的存在大大影響了成像和聚焦的效果. 為了克服像差,人們在上世紀 80 年代發(fā)展了自適應(yīng)光學(xué),即使用改變光學(xué)器件幾何形狀的方法,來最大限度的減少像差.自適應(yīng)光學(xué)擺脫了傳統(tǒng)光學(xué)中的固定的幾何形狀的光學(xué)器件的概念. 在進行光線處理時,光學(xué)鏡面可以隨著聚焦或成像的要求而相應(yīng)地進行變化以達到最佳的效果. 傳統(tǒng)光學(xué)使用了固定的幾何形狀的光學(xué)器件,其主要存在的問題,像差和相位的難題是傳統(tǒng)光學(xué)中固有的,很難徹底克服. 自適應(yīng)光學(xué)可以隨需要改變鏡面或透鏡的形狀,從而從理論上可以徹底克服這個難題.在上世紀 80 年代所發(fā)展出來的自適應(yīng)技術(shù)的價格是十分高昂的. 在一個由成百上千的子鏡所組成的鏡陣面的情況下,自適應(yīng)光學(xué)會要求每一個子鏡都做獨立運動,以達到調(diào)整鏡面形狀的目的. 我們知道,每一個子鏡的運動_度起碼有三個,*,y方向的歐拉運動以及 z 方向的活塞運動. 也就是說在一個由 n 行和 m 列子鏡所形成的陣列的光學(xué)面上所需要的控制個數(shù)應(yīng)該是 3 * n * m. 這樣龐大的控制系統(tǒng),要把自適應(yīng)光學(xué)的技術(shù)推廣到更多的應(yīng)用范圍,特別是許多需要低成本的應(yīng)用領(lǐng)域顯然是十分困難的. 陳對這個問題考慮了十幾年. 他一心一意想找到一種數(shù)學(xué)模式能夠在以上所述的陣列的光學(xué)面的結(jié)構(gòu)中將 n * m 的控制數(shù)量降為 n + m.經(jīng)過多年的研究和計算,陳等人[23]獨立發(fā)展出一種在由 n 行和 m 列的子鏡,所組成的陣列組鏡中,使用行和列運動,以實現(xiàn)每個子鏡的獨立的運動的數(shù)學(xué)方法. 這個方法之所以能夠?qū)崿F(xiàn),是利用了物理學(xué)中眾所周知的轉(zhuǎn)動算子不對易的原理. 陳的研究發(fā)現(xiàn),利用行和列的數(shù)字化的轉(zhuǎn)動,只要按照推導(dǎo)出來的八步運動的方式,改變它們的順序,也就是說,按照行和列的一定的轉(zhuǎn)動次序,按照正轉(zhuǎn)和反轉(zhuǎn)的一定的轉(zhuǎn)動次序就可以消除行列運動對每個子鏡運動的耦合,從而留下純粹的任意子鏡的獨立的運動. 陳的這些研究是在一般的理想化的情況下進行的,它在實踐中的運用,還有待于后人的發(fā)展和探索. 然而,沿著這條一般的理想化的思路,丁璐、胡森等人[24]將陳的方法,發(fā)展成一種類似于泰勒展開的更一般的理論. 這樣一種線運動的方式的最大優(yōu)點,是它極大的減少了需要控制的數(shù)目,實際控制的數(shù)目可以從 n * m 的數(shù)量變成 n + m 的數(shù)量. 丁和胡的發(fā)展的意義,可能在將來的工作中更加顯示出來.
2. 2. 最簡單的行列運動及新型太陽爐
陳等人所發(fā)展的這種陣列組鏡中的通過行、列運動將 m * n 控制數(shù)目降為 m + n 的算法,從理論上講來,只要每步運動足夠的小,是不會影響成像與干涉的光學(xué)行為的. 陳等人還專門研究出一種使用這種方法制造大型遠望鏡的方法[25],并且詳細說明了,在什么情況下,這種減少像差的方法不會影響相位的秩序. 這樣的研究在超高精度的光學(xué)中是有意義的. 然而陳后來發(fā)現(xiàn),如果將這種行列運動代替歐拉運動的方法,推廣到一些需要低成本的光學(xué)應(yīng)用中,例如太陽能運用中的定日鏡等等,這種一般的方法則顯得太昂貴了. 盡管如此,陳又發(fā)現(xiàn),在這種低成本的聚光器中,如果不講究相位,即不需成像,也不必考慮干涉現(xiàn)象,在上述的陣列組鏡中,行列運動代替歐拉運動的方法確實是可行的. 即使是在斜軸聚焦的情況下,此方法仍然可以進行一級的像差的修正.上述的這種最簡單的行列運動的概念,則形成了陳等人所發(fā)展的所謂偏軸聚光的新的方法[26],并且發(fā)展成了后來的新型太陽爐,固定式太陽灶,以及多塔式光熱系統(tǒng)的應(yīng)用. 由于在這些應(yīng)用中,我們只注重能量的集中,成像和干涉是不必顧及的,所以學(xué)術(shù)界同意將這些聚光器命名為“無光像聚焦定日鏡”.經(jīng)過多年的發(fā)展,這種由最簡單的行列運動,而形成的無光像定日鏡,實際上又分成兩種: 一種是具有主動光學(xué)意義的,行列隨時可調(diào)的定日鏡;一種是沒有運動部件的,非主動光學(xué)的,由高次曲面或近似高次曲面組成的定日鏡[27]. 在斜軸聚焦的情況下,前者的聚光效果更好,后者的聚光效果雖然較差,但比傳統(tǒng)光學(xué)面要好得多. 這種新曲面最早由陳等人提出,發(fā)現(xiàn)它的結(jié)果同 Ries 等人[28],使用極其復(fù)雜的方法推導(dǎo)出來的曲面十分相似. 這種曲面的理論后來又由李、陳等人[29]共同發(fā)展出不同的推導(dǎo)方法,其結(jié)果也十分類似.本文中所提出的一種新的高溫手段,新型太陽爐,在目前的技術(shù)發(fā)展的情況下,是基于具有主動光學(xué)意義的行列隨時可調(diào)的定日鏡,所以下文主要是討論這種太陽爐的原理和發(fā)展.綜上所述,陳利用以上所發(fā)展出來的理論,找到了一種簡便的經(jīng)濟的自適應(yīng)光學(xué)方法,實現(xiàn)斜軸的聚焦. 在一個由 m 行和 n 列所形成的光學(xué)鏡陣中,如圖 1 所示鏡面的修正是以行方向的轉(zhuǎn)動 σn和列方向的轉(zhuǎn)動 γn以下列公式所規(guī)定的運動進行的:σn=12tan- 1nHσcosθnHσsinθ[ ]+ L, ( 1)γn=12tan- 1nHγLcos[ ]θ, ( 2)其中,L 為目標(biāo)距離,θ 為運動光源,例如太陽光的入射角,Hσ是鄰近兩行子鏡之間的距離,Hγ是鄰近兩列子鏡之間的距離,n 指的 ……(未完,全文共24787字,當(dāng)前僅顯示4458字,請閱讀下面提示信息。
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